在半導體工業中漂洗水里所含的有機化合物會影響產品的產量和質量。因此規定水中的總有機碳（TOC）污染物的含量不得超過百萬分之一（ppb），即在此應用中只能適用超純水。
紫外照射技術的強大發展使其成功地引入半導體、制藥化妝品，保健品等工業的超純水制造中，此項技術不僅在消毒方面發揮巨大作用，在降低TOC，去除臭氧和氯方面也效果顯著。
在這一應用使用2鐘UV波長，254nm和185nm，254nm波長的紫外光用于消毒作用，同事能破壞水中殘留臭氧分子。185nm輻射能分解有機物分子，他比254nm波長能量更高。能從水分子中分解出自由羥基，從而將有機物氧化分解成CO2和水，從而降低了水中的TOC含量。
本裝置采取了特制的高強度臭氧紫外線殺菌燈和內壁經過特殊處理的微炭臭氏體不銹鋼筒體，筒體外側經特殊拋光處理，使經過預處理的水在流過筒體時受到185nm紫外線的足夠線量的照射，具有良好的殺菌效果，也有效減少了對超純水的影響。
TOC紫外線殺菌器利用紫外線的特性，殺滅水中細菌、病毒、酵母、霉菌及藻類生物，不需添加任何化學藥品及不需加熱或冷卻，即能達到消毒效果，故廣泛適用于電子工業
超純水系統作流水殺菌用，也適用于醫藥品、飲料、化學、化妝品等工業原料水、飲用純凈水、礦泉水、洗凈水系統作流水殺菌用，對機關團體、高級飯店、公共場所等供水系統，也是理想的衛生防疫消毒設備。
結構合理，造型美觀，材料優良，效果顯著，使用方便，經久耐用。
⊙ 經紫外線消毒系統處理過的水體，其各病毒、細菌的除去率達99%以上。
⊙ 對飲用水終端加用紫外線消毒，可達到直接飲用水的標準。
⊙ 對城鎮污水消毒，細菌總量降至200個/100ml以下，大腸桿菌20個/100ml以下。
